بررسی الکترواپتیکی لایههای نازک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به منظور طراحی قطعه الکتروکرومیک
Authors
Abstract:
In this study, tungsten oxide and vanadium oxide electrochromic thin films were placed in vacuum and in a thickness of 200 nm on a transparent conductive substrate of SnO2:F using the physical method of thermal evaporation. Then they were studied for the optical characteristics in the wavelength range from 400 to 700 nm and for their electrical potentials in the range form +1.5 to -1.5 volts. The films were post heated in order to assess changes in energy gap with temperature, at temperatures120 , 300 and 500°C. Refractive and extinction coefficients and the transition type of films in the visible light range and in the thickness of 200 nm were determined and measured. X-ray diffraction pattern and SEM images and cyclic Voltammetry of layers were also studied. The results of this study due to the deposition of layers, the layer thickness selected, the type of substrate, the range of annealing temperatures and selected electrolyte were in full compliance with the works of other researchers [1,2,3]. Therefore, these layers with features such as crystal structure, refractive and even extinction coefficients in the range of visible light, the appropriate response of chromic switch in the replication potential, good adhesion to the substrate, and the high amount of optical transmition and so on, prove useful to be used in an electrochromic device
similar resources
بررسی الکترواپتیکی لایه های نازک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به منظور طراحی قطعه الکتروکرومیک
در این مطالعه لایههای نازک الکتروکرومیک اکسید تنگستن و اکسید وانادیوم به روش فیزیکی تبخیر حرارتی در خلأ در ضخامت 200 نانومتر بر روی زیر لایه هادی شفاف sno2:f جایگذاری شده و مورد مطالعه اپتیکی در بازه طول موج 400 تا 700 نانومتر و مطالعه الکتریکی در بازه پتانسیل 5/1- تا 5/1+ ولت قرار گرفتهاند. همچنین این لایهها به منظور بررسی میزان تغییر گاف انرژی با دما، در دماهای 120، 300 و 500 درجه سیلسیوس ...
full textبهبود رفتار ترشوندگی سل حاوی تنگستن برای تهیه لایههای نازک اکسید تنگستن
در این کار لایه�های اکسید تنگستن بر روی الکترود شفاف اکسیدی و همچنین شیشه نوری با استفاده از روش فروبری در سُل?های پایه آبی و الکلی آماده و سپس در 400 درجه عملیات حرارتی گردیدند. ترشوندگی لایه?های مورد استفاده توسط سُل?های آماده شده نیز با مشاهدات چشمی و تصویربرداری بررسی شد. لایه�های آماده شده با میکروسکوپ الکترونی روبشی، پراش اشعه X و همچنین ولتامتری چرخه�ای در محلول اسیدسولفوریک مورد مطالعه قر...
full textتأثیر دمای بازپخت بر ویژگی‌های اپتیکی و الکتروکرومیکی فیلم‌های نازک اکسید تنگستن
Tungsten trioxide (WO3) thin films were coated onto fluorine tin oxide coated glass substrates, using electrodeposition technique via aqueous solution of peroxotungstic acid. WO3 films were evaluated as a function of annealing temperature (60°C, 100°C, 250°C and 400°C). The films were analyzed by field emission Scanning Electron Microscopy (SEM), UV-visible spectrometer and cyclic voltammogram....
full textمروری بر خصوصیات فیزیکی ترکیبات اکسیدی قابل استفاده در کاربردهای الکتروکرومیک
استفاده از فناوری‌های نوین برای دستیابی به آسایش بیشتر، افزایش بازدهی و صرفه‌جویی در مصرف انرژی همواره مورد توجه فراوان محققان قرار داشته است. الکتروکرومیسم از پدیده‌های مورد استفاده به عنوان یک فناوری سبز است. مواد الکتروکرومیک که با اعمال اختلاف پتانسیل به قطعه الکتروکرومیک تغییر رنگ میدهند، در اصل موادی هستند که در اثر تغییر جهت و مقدار ولتاژ اعمالی به قطعه، عبور نور از آن را تنظیم‌پذیر می...
full textساخت و شناسایی نانو لوله های وانادیوم اکسید
این مقاله به علت انتشار نتایج پژوهش توسط نویسنده اول در نشریه زیر حذف شد: (Indian Journal of Science and Technology, Vol.8, Supplementary Issue 9 (2015 http://www.indjst.org/index.php/indjst/article/view/68569
full textMy Resources
Journal title
volume 14 issue 4
pages 231- 240
publication date 2015-01
By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.
No Keywords
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023